Установка предназначена для электронно-пучковой полировки металлических и металлокерамических изделий, упрочнения металлов и сплавов, формирования поверхностных сплавов.

Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий (за счет импульсной термообработки, радиационно-химического воздействия и т.д.), стерилизации, целенаправленного воздействие на клетки, отверждения полимерных покрытий и др.

Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий

Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: элионного азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий на крупногабаритные и протяженные детали

Установка используется для нанесения функциональных покрытий вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом и для ионно-плазменной обработки образцов и изделий

Установка предназначена для комбинированной модификации поверхности материалов и изделий в любой последовательности: азотирования, ионно-плазменного травления, нанесения функциональных покрытий, электронно-пучковой обработки

Установка предназначена для формирования протяженных упрочненных азотированных слоев у материалов и изделий

Установка используется для поверхностной электронно-пучковой обработки металлических материалов и изделий с целью улучшения их электрофизических, электрохимических и иных характеристик

Установка предназначена для магнетронного осаждения тонкопленочного двухслойного электролита на основе оксидов циркония и церия (YSZ, GDC) на несущие аноды твердооксидных топливных элементов

Нанесение DLC:SiOx покрытий плазмохимическим методом для применений в медицине (биоинертные, атромбогенные покрытия для кардиохирургии) и машиностроении (для защиты металлов от износа и коррозии)

Магнетронное осаждение износостойких нитридных покрытий методом дуального сильноточного магнетронного распыления

Осаждение покрытий, в том числе в области предельно низкого рабочего давления (до 0.04 Па), с целью улучшения их свойств (увеличения адгезии и степени кристалличности, уменьшения шероховатости поверхности и др.). Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия

Устройство позволяет наносить пленки бора, а также осуществлять синтез борсодержащих покрытий в среде реактивных газов

Электронно-лучевая обработка диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтез диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов