СОЛО
Электронно-пучковая установка
Установка предназначена для электронно-пучковой полировки металлических и металлокерамических изделий, упрочнения металлов и сплавов, формирования поверхностных сплавов.
Электронно-пучковая установка
Установка предназначена для электронно-пучковой полировки металлических и металлокерамических изделий, упрочнения металлов и сплавов, формирования поверхностных сплавов.
ДУЭТ
Электронный источник с пучком большого сечения
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий (за счет импульсной термообработки, радиационно-химического воздействия и т.д.), стерилизации, целенаправленного воздействие на клетки, отверждения полимерных покрытий и др.
Электронный источник с пучком большого сечения
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий (за счет импульсной термообработки, радиационно-химического воздействия и т.д.), стерилизации, целенаправленного воздействие на клетки, отверждения полимерных покрытий и др.
ТРИО
Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования и нанесения покрытий
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий
Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования и нанесения покрытий
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий
ЭЛИОН
Вакуумная ионно-плазменная установка для обработки крупногабаритных и протяженных деталей
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: элионного азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий на крупногабаритные и протяженные детали
Вакуумная ионно-плазменная установка для обработки крупногабаритных и протяженных деталей
Установка предназначена для модификации поверхности материалов и изделий: элионного азотирования, ионно-плазменного травления и нанесения функциональных слоев и покрытий на крупногабаритные и протяженные детали
КВИНТА
Ионно-плазменная установка для комплексной обработки поверхности материалов и изделий
Установка используется для нанесения функциональных покрытий вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом и для ионно-плазменной обработки образцов и изделий
Ионно-плазменная установка для комплексной обработки поверхности материалов и изделий
Установка используется для нанесения функциональных покрытий вакуумно-дуговым плазменно-ассистированным методом и для ионно-плазменной обработки образцов и изделий
КОМПЛЕКС
Установка электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности материалов и изделий
Установка предназначена для комбинированной модификации поверхности материалов и изделий в любой последовательности: азотирования, ионно-плазменного травления, нанесения функциональных покрытий, электронно-пучковой обработки
Установка электронно-ионно-плазменного инжиниринга поверхности материалов и изделий
Установка предназначена для комбинированной модификации поверхности материалов и изделий в любой последовательности: азотирования, ионно-плазменного травления, нанесения функциональных покрытий, электронно-пучковой обработки
Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования материалов и изделий
Установка предназначена для формирования протяженных упрочненных азотированных слоев у материалов и изделий
Установка предназначена для формирования протяженных упрочненных азотированных слоев у материалов и изделий
РИТМ-СП
Интегрированные установки для полировки поверхности металлических материалов и формирования поверхностных сплавов
Установка используется для поверхностной электронно-пучковой обработки металлических материалов и изделий с целью улучшения их электрофизических, электрохимических и иных характеристик
Интегрированные установки для полировки поверхности металлических материалов и формирования поверхностных сплавов
Установка используется для поверхностной электронно-пучковой обработки металлических материалов и изделий с целью улучшения их электрофизических, электрохимических и иных характеристик
Вакуумная установка для нанесения электролита твердооксидных топливных элементов
Установка предназначена для магнетронного осаждения тонкопленочного двухслойного электролита на основе оксидов циркония и церия (YSZ, GDC) на несущие аноды твердооксидных топливных элементов
Установка предназначена для магнетронного осаждения тонкопленочного двухслойного электролита на основе оксидов циркония и церия (YSZ, GDC) на несущие аноды твердооксидных топливных элементов
Установка для нанесения легированных кремнием и кислородом DLC покрытий (DLC:SiOx)
Нанесение DLC:SiOx покрытий плазмохимическим методом для применений в медицине (биоинертные, атромбогенные покрытия для кардиохирургии) и машиностроении (для защиты металлов от износа и коррозии)
Нанесение DLC:SiOx покрытий плазмохимическим методом для применений в медицине (биоинертные, атромбогенные покрытия для кардиохирургии) и машиностроении (для защиты металлов от износа и коррозии)
Вакуумная установка для нанесения износостойких нитридных покрытий
Магнетронное осаждение износостойких нитридных покрытий методом дуального сильноточного магнетронного распыления
Магнетронное осаждение износостойких нитридных покрытий методом дуального сильноточного магнетронного распыления
Планарный магнетрон с инжекцией электронов
Осаждение покрытий, в том числе в области предельно низкого рабочего давления (до 0.04 Па), с целью улучшения их свойств (увеличения адгезии и степени кристалличности, уменьшения шероховатости поверхности и др.).
Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия
Осаждение покрытий, в том числе в области предельно низкого рабочего давления (до 0.04 Па), с целью улучшения их свойств (увеличения адгезии и степени кристалличности, уменьшения шероховатости поверхности и др.).
Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия
Планарный магнетрон с мишенью из чистого кристаллического бора для синтеза борсодержащих покрытий
Устройство позволяет наносить пленки бора, а также осуществлять синтез борсодержащих покрытий в среде реактивных газов
Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия
Устройство позволяет наносить пленки бора, а также осуществлять синтез борсодержащих покрытий в среде реактивных газов
Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия
Форвакуумный плазменный источник электронов
Электронно-лучевая обработка диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтез диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов
Электронно-лучевая обработка диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтез диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов
