
![]() |
СОЛО |
![]() |
ДУЭТ |
![]() |
ТРИО |
![]() |
ЭЛИОН |
![]() |
КВИНТА |
![]() |
КОМПЛЕКС |
![]() |
Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования материалов и изделийУстановка предназначена для формирования протяженных упрочненных азотированных слоев у материалов и изделий |
![]() |
РИТМ-СП |
![]() |
Вакуумная установка для нанесения электролита твердооксидных топливных элементовУстановка предназначена для магнетронного осаждения тонкопленочного двухслойного электролита на основе оксидов циркония и церия (YSZ, GDC) на несущие аноды твердооксидных топливных элементов |
![]() |
Установка для нанесения легированных кремнием и кислородом DLC покрытий (DLC:SiOx)Нанесение DLC:SiOx покрытий плазмохимическим методом для применений в медицине (биоинертные, атромбогенные покрытия для кардиохирургии) и машиностроении (для защиты металлов от износа и коррозии) |
![]() |
Вакуумная установка для нанесения износостойких нитридных покрытийМагнетронное осаждение износостойких нитридных покрытий методом дуального сильноточного магнетронного распыления |
![]() |
Планарный магнетрон с инжекцией электроновОсаждение покрытий, в том числе в области предельно низкого рабочего давления (до 0.04 Па), с целью улучшения их свойств (увеличения адгезии и степени кристалличности, уменьшения шероховатости поверхности и др.). Виды покрытий: металлические покрытия, нитридные покрытия: TiN, TiAlN, CrAlN и др., многослойные покрытия |
![]() |
Планарный магнетрон с мишенью из чистого кристаллического бора для синтеза борсодержащих покрытийУстройство позволяет наносить пленки бора, а также осуществлять синтез борсодержащих покрытий в среде реактивных газов |
![]() |
Форвакуумный плазменный источник электроновЭлектронно-лучевая обработка диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтез диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов |