Назначение
Формирование протяженных диффузионных нитридсодержащих слоев с повышенной износо- и корозионной стойкостью.
Основные характеристики установки
| Размеры установки | 2500×2500×2800 мм |
| Размеры садки деталей | Ø700 h1200 мм |
| Максимальный вес загрузки | 500 кг |
| Потребляемая мощность | до 150 кВт |
| Рабочее давление | 0.01–10 Па |
| Водяное охлаждение | не более 5 м3/ч |
Контактная информация
Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3
Заведующий лабораторией
плазменной эмиссионной электроники
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович
ahmadeev@opee.hcei.tsc.ru
+8 3822 491713
+7 923 408 6284
