Вакуумная ионно-плазменная установка для азотирования материалов и изделий


Назначение

Формирование протяженных диффузионных нитридсодержащих слоев с повышенной износо- и корозионной стойкостью.

Основные характеристики установки

Размеры установки 2500×2500×2800 мм
Размеры садки деталей Ø700 h1200 мм
Максимальный вес загрузки 500 кг
Потребляемая мощность до 150 кВт
Рабочее давление 0.01–10 Па
Водяное охлаждение не более 5 м3

Контактная информация

Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3

Заведующий лабораторией
плазменной эмиссионной электроники
АХМАДЕЕВ Юрий Халяфович
ahmadeev@opee.hcei.tsc.ru
+8 3822 491713
+7 923 408 6284