Форвакуумный плазменный источник электронов


Форвакуумные плазменные источники электронов обладают уникальной возможностью непосредственной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов (высокотемпературные керамики, стекла, бориды карбиды, полимеры и др.), а также синтеза диэлектрических покрытий в результате электронно-лучевого испарения этих материалов.

Технические характеристики

Режим работы непрерывный / импульсивный
Ускоряющее напряжение до 20 кВ
Ток пучка до 500 мА
Мощность пучка до 10 кВт
Минимальный диаметр пучка 0,5 мм
Плотность мощности до 106 Вт/см2
Давление рабочего газа от 1 до 100 Па, (7•10-3— 0,7 Торр)
Рабочий газ остаточная атмосфера, гелий, кислород, азот, аргон, криптон, ацетилен и др.
Охлаждение водяное

Области возможных применений: электронно-лучевой нагрев, плавка, сварка, пайка, спекание, фрезеровка диэлектрических изделий, синтез диэлектрических покрытий, генерация пучковой плазмы с концентрацией до 1012 см-3, и ее использование для модификации поверхностных свойств различных материалов.


Фотография электронного пучка
в сфокусированном и расфокусированном режимах

Контактная информация

Институт сильноточной электроники СО РАН, (ИСЭ СО РАН)
634055, г. Томск, пр. Академический 2/3

Старший научный сотрудник
ШАНДРИКОВ Максим Валентинович
shandrikov@opee.hcei.tsc.ru
+8 3822 491776