Размер шрифта

Цвет фона и шрифта

Изображения

Озвучивание текста

Обычная версия сайта

+7 (3822) 900-650
Россия, 634055, г. Томск, проспект Академический, 2/3
contact@hcei.ru
Пн. – Пт.: с 9:00 до 18:00

Лаборатория пучково-плазменной инженерии поверхности (ЛППИП)

В конце 2018 года в Институте сильноточной электроники СО РАН была создана новая молодёжная лаборатория пучково-плазменной инженерии поверхности. Руководитель лаборатории – доктор технических наук Владимир Викторович Денисов.

Тематика лаборатории связана с разработкой физико-технических основ создания электроразрядного и плазменного оборудования и технологий для инженерии поверхности материалов и изделий с целью кратного повышения их физико-механических свойств и эксплуатационных характеристик.

Практическая значимость указанных направлений заключается в создании источников стационарных и импульсных объемно-однородных газовых и газо-металлических плазменных образований в больших (>0,1 м³) вакуумных объемах, а также разработке алгоритмов и технологических режимов формирования заданной структуры, фазового состава и физико-механических свойств поверхности материалов и изделий методами пучково-плазменной инженерии поверхности. В составе лаборатории работают 10 научных сотрудников, включая 1 доктора наук и 3 кандидатов наук.

В лаборатории создаются и совершенствуются образцы источников объемно-однородных газо-металлических пучково-плазменных образований для реализации процессов упрочнения поверхности материалов и изделий и специализированное диагностическое оборудование. В 2019 году создана и апробирована автоматизированная система зондовых измерений параметров плазмы стационарных и импульсных пучково-плазменных образований. В 2020 году создан генератор объёмных пучково-плазменных образований, позволяющий в полом катоде объемом около 0,3 м3 в непрерывном и импульсном режимах горения разряда создавать технологическую плазму для очистки, активации и азотирования поверхности изделий из конструкционных и инструментальных сталей массой до 150 кг.

Сотрудники лаборатории не раз являлись руководителями и участниками проектов грантам Российского фонда фундаментальных исследований (РФФИ) и Российского научного фонда (РНФ).

ВОЗМОЖНЫЕ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЕ ТЕМЫ ДЛЯ СТУДЕНТОВ:

Генерация объемно-однородных газо-металлических пучково-плазменных образований.
Закономерности формирования многослойных покрытий на основе нитридов и оксидов в газо-металлических пучково-плазменных образованиях.
Закономерности формирования слоёв на поверхности материалов при комбинированной электронно-ионно-плазменной обработке.

Исследования условий стабильной генерации стационарных и импульсных пучково-плазменных образований;
Исследования процессов генерации газо-металлической плазмы и влияния различных факторов на степень неоднородности и параметры создаваемой плазмы;
Исследования закономерностей и результатов целенаправленного пучково-плазменного воздействия на поверхность материалов, приводящего к формированию слоев с измененным фазовым составом и структурой, с улучшенными физико-механическими свойствами и эксплуатационными характеристиками.

Сотрудники лаборатории не раз являлись руководителями и участниками проектов грантам Российского фонда фундаментальных исследований (РФФИ) и Российского научного фонда (РНФ).

V.V. Denisov, Yu.H. Akhmadeev, N.N. Koval, S.S. Kovalsky, I.V. Lopatin, E.V. Ostroverkhov, N.N. Pedin, V.V. Yakovlev, and P.M. Schanin The source of volume beam-plasma formations based on a high-current non-self-sustained glow discharge with a large hollow cathode // Phys. Plasmas 26, 123510 (2019); https://doi.org/10.1063/1.5126485
Яковлев В.В., Денисов В.В., Коваль Н.Н., Ковальский С.С., Островерхов Е.В., Егоров А.О., Савчук М.В. Генерация плазмы с повышенной степенью ионизации в импульсном сильноточном тлеющем разряде низкого давления с полым катодом // Изв. вузов. Физика. 2020. № 10. C. 109–116. (DOI: 10.17223/00213411/63/10/109).
Ковальский С.С., Денисов В.В., Коваль Н.Н., Островерхов Е.В. Протяженный цилиндрический плазменный эмиттер на основе дугового разряда низкого давления для генерации радиально расходящегося электронного пучка// Известия высших учебных заведений. Физика. 2020. Т. 63. № 10 (754). С. 87-94. (DOI: 10.17223/00213411/63/10/87)

Новости