д.ф.-м.н. Ю.Ф. Иванов, В.В. Шугуров, к.т.н. О.В. Крысина, Н.А. Прокопенко, Е.А. Петрикова
В результате выполненных исследований, направленных на разработку метода формирования пленок высокоэнтропийных сплавов (ВЭС) и покрытий электродуговым плазменно-ассистированным осаждением, получены пленки высокоэнтропийного сплава элементного состава: 25.7Ti-17.0Al-21.9Nb-22.3Zr-13.6Cu толщиной (3-5) мкм. Показано, что пленки являются рентгеноаморфным материалом (рис. 1), имеют многослойную (толщина слоев (12-23) нм) наноразмерную (размер кристаллитов (2-3) нм) структуру (рис. 2) и обладают высокой твердостью (12-14) ГПа и модулем Юнга (230-310) ГПа.
Рис. 3. Электронно-микроскопическое изображение структуры системы «ВЭС/ВТ1-0», облученной импульсным электронным пучком (20 Дж/см2, 50 мкс, 3 имп.).
Установлено, что пленка ВЭС, облученная импульсным электронным пучком, имеет структуру высокоскоростной ячеистой кристаллизации (рис. 3). Размер ячеек изменяется в пределах от 300 нм до 600 нм. Ячейки (β-NbZrTiAl) окаймлены прослойками второй фазы (CuZr). Толщина прослоек изменяется в пределах (20-110) нм. Показано, что твердость пленок, облученных электронным пучком, изменяется в пределах (6,9 - 8,8) ГПа и снижается при увеличении плотности энергии пучка электронов.
Результаты получены в рамках выполнения проекта РФФИ_БРФФИ № 20-58-00006 "Разработка научных основ электронно-ионно-плазменной технологии формирования высокоэнтропийных сплавов и нитридных покрытий на их основе".
Результат получен сотрудниками ЛПЭЭ